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    产品中心
    • 钢化玻璃板
    • OTF1200X-5-III-F3LV is a CE certified split 5" (O.D) three-zone tube furnace, which can achieve faster heating up to 1200oC and create a different thermal gradient by adjust three zone temperature. Th 带滑动法兰三温区CVD系统OTF-1200X-5-III-F3LV可以快速加热至1200℃,并通过调整三个温区而建立不同梯度的热场,可进行退火、扩散、在不同气氛中烧结样品及CVD等实验。
    • EQ-TM106膜厚监测仪是采用石英晶体振荡原理,结合先进的频率测量技术,进行膜厚的在线监测。主要应用于MBE、OLED热蒸发、磁控溅射等设备的薄膜制备过程中,对膜层厚度及镀膜速率进行实时监测。根据实时速率可以输出PWM模拟量,作为膜厚传感器使用,与调节仪和蒸发电源配合实现蒸发源的闭环速率控制。
    • TFMS-LD是一款反射光谱薄膜测厚仪,可快速精-确地测量透明或半透明薄膜的厚度,其测量膜厚范围为15nm-50um,仪器所发出测试光的波长范围为400nm-1100nm。此款测试系统理论基础为镜面反射率,并且采用光纤反射探头。仪器尺寸小巧,方便于在实验室中摆放和使用。
    • TM106-LD薄膜测厚仪/层积速率显示仪的工作原理,是依据所测样品薄膜厚度的改变而导致石英晶片振荡频率改变。将所蒸发材料的密度输入到测试系统中,便可测量层积薄膜的厚度。此款测厚仪的分辨率为0.037 ?。
    • GSL-1700X-SPC-2是一款小型台式程序控温蒸发镀膜仪,可以设定程序,精-确控制温度200oC~1500oC(或者1200oC~1700oC),样品台可旋转以获得更均匀的薄膜,可制备各种金属薄膜和有机物薄膜。
    • GSL-1700X-HVC是一款CE认证的二通道高真空CVD系统,它是由二路质子混气系统和高真空机组组成,其*高工作温度可达1600℃,极限真空度可达 to 10^-5 torr。混气系统可以对两种气体进行精-确的混气,然后导入到管式炉内部。安装尺寸:管炉:550 x 380 x 520mm 高真空:550 x 380 x 520mm
    • OTF-1200X-4-RTP-SL是一款能够快速升温和降温的管式炉,其通过红外灯管加热达到快速升温的效果(*大升温速率> 50°C/S),通过炉体滑动来达到快速冷却效果(*大降温速率>10°C/S)。
    • 镍箔(石墨烯专用)
    • 铜箔-石墨烯专用
    • 1100℃双管三温区管式炉是一款CE认证的三温区双管管式炉,其外管直径11英寸,内管直径8.5英寸,在加热管一端安装有一对高真空不锈钢法兰,法兰上安装有机械压力表和阀门,三个温区都是采用30段可编程PID数字温度控制器进行温度控制,采用K型热电偶进行测温,控温精度+/- 1 oC ,专门针对于用在金属箔上生长薄膜物质,如石墨烯、使用时把金属箔附在内管上。
    • CGM-2F是一款小型的两通道混气系统,用于惰性气体的控制,可用以小型管式炉,手套箱,等离子清洗机,小型PECVD系统等。
    • MSK-USP-6000是一款实验型雾化干燥器,通过蒸发雾化液滴以及旋风分离工艺进行微粉的制备收集。该设备对温敏型材料具有广谱适用性,广泛应用于生物医药、纳米技术、催化剂、燃料电池以及其他电池领域。
    • OTF-1200X-50-II-4CV-PE-MSL是一款双温区的PE-CVD管式炉系统,组成部分为500W的射频发生器、滑动速度可控的双温区滑轨炉,预热炉(作用为使固体原料蒸发)和德国进口的无油泵。此款PE-CVD对于生长纳米线或用CVD,方法来制作各种薄膜是一款新的探索工具。
    • GSL-1700X-F3LV是一款CE认证的管式炉CVD系统,其真空泵采用双旋片式,混气系统采用三路浮子供气系统,*高温度可以达到1700°C,真空度可达到5x10-2 torr ,可以混合1-3种气体。
    • 三温区三通道混气CVD系统是一款通过CE认证的三温区管式炉CVD系统,其炉管直径为60mm,其真空泵采用双旋机械泵,混气系统为3路浮子混气系统。此高温炉烧结温度可达1700℃,真空度可达到5x10-2 torr ,可以混合1-3种气体。
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